Nghiên cứu nâng cao hiệu quả gia công của phương pháp tia lửa điện bằng biện pháp trộn bột Titan vào dung dịch điện môi

189 481 0
Nghiên cứu nâng cao hiệu quả gia công của phương pháp tia lửa điện bằng biện pháp trộn bột Titan vào dung dịch điện môi

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

Thông tin tài liệu

PHẦN MỞ ĐẦU 1. Tính cấp thiết của đề tài Phương pháp gia công bằng tia lửa điện (EDM) là phương pháp gia công phi truyền thống, được ứng dụng ngày càng nhiều trong gia công các chi tiết có hình dáng phức tạp, từ các vật liệu khó gia công, đặc biệt là các lòng, lõi của khuôn dập và khuôn đúc... [13]. Phương pháp này không bị ràng buộc bởi quan hệ độ cứng giữa phôi và dụng cụ, các vấn đề như rung động, ứng suất cơ học, tiếng ồn không xuất hiện trong suốt quá trình gia công [34]. Tuy nhiên, EDM cũng tồn tại một số hạn chế như: Năng suất bóc tách vật liệu thấp, điện cực dụng cụ bị mòn và chất lượng bề mặt gia công không cao (phải có thêm nguyên công gia công tinh) [19]. Điều này dẫn đến việc tăng giá thành chế tạo của phương pháp EDM [103]. Trong những năm gần đây, nhiều giải pháp nghiên cứu được đưa ra nhằm cải thiện các chỉ tiêu kinh tế, kỹ thuật của quá trình như: Tối ưu hóa thông số công nghệ, lựa chọn cặp vật liệu điện cực - phôi hợp lý, vật liệu điện cực đặc biệt và bột bằng vật liệu dẫn điện trộn vào dung dịch điện môi. Trong những giải pháp trên, EDM có sử dụng bột dẫn điện trộn vào dung dịch điện môi (PMEDM) là biện pháp cho kết quả rất khả quan [18], [64], [89]. Và đây là biện pháp đang rất được quan tâm trong nhiều nghiên cứu. Các nghiên cứu về PMEDM đã chỉ ra rằng: Sử dụng biện pháp này có thể làm tăng đồng thời cả năng suất và chất lượng quá trình gia công [34], [39]. Tuy nhiên, PMEDM là biện pháp công nghệ mới, các thông tin về công nghệ này hiện nay chưa nhiều (do bí mật hoặc bản quyền công nghệ) và vẫn còn nhiều vấn đề cần được làm rõ (vật liệu – kích thước – nồng độ của bột, nguyên lý gia công, thông số công nghệ,...) trước khi được ứng dụng rộng rãi trong thực tiễn sản xuất [88]. Vì vậy, củng cố cơ sở lý thuyết và phát triển ứng dụng biện pháp công nghệ này là hướng nghiên cứu được quan tâm. Hiện nay, các máy EDM như: Máy xung định hình, máy cắt dây được nhập khẩu từ Trung Quốc, Đài Loan,... có giá thành không quá cao nên đây là thiết bị đang được sử dụng phổ biến ở nước ta. Mặc dù vậy, EDM là phương pháp có số lượng thông số công nghệ lớn với phạm vi thay đổi rộng. Việc lựa chọn các thông số công nghệ trong sản xuất thường dựa vào tài liệu hướng dẫn của máy (ít được chuyển giao khi mua máy) hoặc theo kinh nghiệm thực tế nên hiệu quả ứng dụng EDM bị hạn chế. Bên cạnh đó, những nghiên cứu chuyên sâu về lĩnh vực EDM ở nước ta chưa nhiều và chủ yếu là nghiên cứu chuyển giao công nghệ. Vì vậy, để khai thác hiệu quả kinh tế - kỹ thuật các thiết bị EDM, giảm giá thành chế tạo và nâng cao năng suất gia công, tăng khả năng cạnh tranh của sản phẩm cơ khí trong bối cảnh hội nhập và cạnh tranh khốc liệt, đòi hỏi cấp thiết các công trình nghiên cứu theo hướng nâng cao hiệu quả gia công của EDM. Nhiều loại vật liệu bột (Si, Al, W, Gr, Cu, Ti,...) đã được sử dụng trong nghiên cứu PMEDM [56], [64]. Với mục tiêu nghiên cứu tập trung vào một số hướng: Nâng cao năng suất, chất lượng bề mặt gia công (bột Al, Gr, Cu, Si, Al 2 O ,...) hoặc nâng cao cơ tính bề mặt gia công (bột W, WC, Ti, TiC, Cr,...). Một số nghiên cứu đã cho thấy: Sử dụng vật liệu bột hợp lý trong PMEDM có thể đồng thời nâng cao năng suất gia công, giảm độ nhám và cải thiện cơ tính của bề mặt gia công. Đặc biệt, năng suất và chất lượng bề mặt gia công có thể đồng thời được cải thiện ngay trong quá trình tạo hình bề mặt sản phẩm bằng PMEDM nên đã làm giảm thời gian chế tạo sản phẩm. Cho đến nay các nghiên cứu với bột Ti trong PMEDM mới tập trung vào giảm độ nhám bề mặt và nâng cao cơ tính bề mặt gia công [64], [89]. 3 Nghiên cứu tối ưu hóa PMEDM là lĩnh vực rất phức tạp do số lượng các thông số công nghệ lớn và ảnh hưởng của chúng đến các chỉ tiêu tối ưu là rất khác nhau [19], [88]. Nhiều phương pháp và công cụ tối ưu đã được sử dụng trong lĩnh vực này: Bề mặt chỉ tiêu, mạng nhân tạo, Taguchi,... với bài toán tối ưu phần lớn là bài toán đơn mục tiêu [33], [78]. Tuy nhiên, hiệu quả tối ưu EDM sẽ tốt hơn nếu là tối ưu đa mục tiêu. Ngành chế tạo khuôn mẫu đang được quan tâm phát triển mạnh ở nước ta. Chính phủ đã đưa sản phẩm khuôn mẫu vào danh mục sản phẩm công nghiệp hỗ trợ ưu tiên phát triển. Các mác thép SKD61, SKD11, SKH54, SKH51, AISI 01, SKT4 được sử dụng rộng rãi để chế tạo các loại khuôn mẫu. Vì vậy, nghiên cứu nâng cao năng suất và chất lượng gia công có liên quan trực tiếp với các sản phẩm dạng này sẽ có ý nghĩa thực tiễn với ngành công nghiệp cơ khí nước ta. Những vấn đề trên là định hướng cho tác giả chọn đề tài: “Nghiên cứu nâng cao hiệu quả gia công của phương pháp tia lửa điện bằng biện pháp trộn bột Titan vào dung dịch điện môi”.

0 BỘ GIÁO DỤC VÀ ĐÀO TẠO ĐẠI HỌC THÁI NGUYÊN NGUYỄN HỮU PHẤN NGHIÊN CỨU NÂNG CAO HIỆU QUẢ GIA CÔNG CỦA PHƢƠNG PHÁP TIA LỬA ĐIỆN BẰNG BIỆN PHÁP TRỘN BỘT TITAN VÀO DUNG DỊCH ĐIỆN MÔI LUẬN ÁN TIẾN SĨ KỸ THUẬT THÁI NGUYÊN - 2016 BỘ GIÁO DỤC VÀ ĐÀO TẠO LỜI CAM ĐOAN ĐẠI HỌC THÁI NGUYÊN Tôi xin cam đoan công trình nghiên cứu riêng Các số liệu, kết nghiên cứu Luận án khách quan, trung thực chưa công bố công trình khoa học khác Ngƣời viết cam đoan NGUYỄN HỮU PHẤN NGHIÊN CỨU NÂNG CAO HIỆU QUẢ Nguyễn GIA CÔNG Hữu Phấn CỦA PHƢƠNG PHÁP TIA LỬA ĐIỆN BẰNG BIỆN PHÁP TRỘN BỘT TITAN VÀO DUNG DỊCH ĐIỆN MÔI Chuyên ngành : Kỹ thuật khí Mã số : 62.52.01.03 LUẬN ÁN TIẾN SĨ KỸ THUẬT Ngƣời hƣớng dẫn khoa học: GS.TSKH Bành Tiến Long TS Ngô Cƣờng THÁI NGUYÊN - 2016 ii MỤC LỤC LỜI CAM ĐOAN i LỜI CẢM ƠN ii MỤC LỤC iii DANH MỤC CÁC CỤM TỪ VIẾT TẮT vi DANH MỤC CÁC KÍ HIỆU vii DANH MỤC CÁC BẢNG BIỂU x DANH MỤC CÁC HÌNH VẼ xii PHẦN MỞ ĐẦU Chƣơng TỔNG QUAN VỀ PHƢƠNG PHÁP GIA CÔNG BẰNG TIA LỬA ĐIỆN 1.1 Phương pháp gia công tia lửa điện (EDM) 1.1.1 Lịch sử phát triển 1.1.2 Nguyên lý gia công 1.1.3 Các ứng dụng EDM gia công khí 1.1.4 Các thông số công nghệ 1.1.5 Năng suất, chất lượng bề mặt độ xác gia công 11 1.1.6 Các hướng nghiên cứu EDM 14 1.2 Biện pháp trộn bột vào dung dịch điện môi EDM 21 1.2.1 Sơ đồ gia công 21 1.2.2 Bột trộn dung dịch điện môi 22 1.2.3 Những thay đổi trình EDM bột trộn vào dung dịch điện môi 24 1.2.4 Tổng quan hướng nghiên cứu PMEDM 27 1.3 EDM công nghệ chế tạo khuôn 34 1.4 Nhận xét 34 1.5 Xác định hướng nghiên cứu 35 iii 1.6 Một số giả thiết khoa học 35 Chƣơng THỰC NGHIỆM KHẢO SÁT GIA CÔNG BẰNG EDM 36 2.1 Khảo sát chất lượng lớp bề mặt khuôn dập nóng sau EDM 36 2.1.1 Mục đích 36 2.1.2 Đối tượng khảo sát 36 2.1.3 Điều kiện khảo sát 37 2.1.3.1 Thiết bị, thông số công nghệ điều kiện gia công 37 2.1.3.2 Thiết bị đo, kiểm tra 37 2.1.4 Kết thảo luận 38 2.1.4.1 Cấu trúc lớp bề mặt gia công 38 2.1.4.2 Thành phần hóa học tổ chức tế vi lớp bề mặt gia công 41 2.1.4.3 Topography bề mặt gia công 43 2.2 Khảo sát ảnh hưởng nồng độ bột đến trình gia công EDM 44 2.2.1 Mục đích 44 2.2.2 Hệ thống thí nghiệm 45 2.2.3 Thiết bị đo, kiểm tra 49 2.2.4 Kết thảo luận 49 2.2.4.1 Kết 49 2.2.4.2 Ảnh hưởng nồng độ bột Ti đến suất chất lượng bề mặt gia công PMEDM 50 2.2.4.3 Phương trình hồi quy thực nghiệm 59 Kết luận chương 68 Chƣơng THỰC NGHIỆM XÁC ÐỊNH ẢNH HƢỞNG CỦA MỘT SỐ YẾU TỐ ÐẾN NĂNG SUẤT VÀ CHẤT LƢỢNG BỀ MẶT GIA CÔNG BẰNG TIA LỬA ÐIỆN CÓ TRỘN BỘT TITAN VÀO DUNG DỊCH ÐIỆN MÔI 70 3.1 Thiết kế thí nghiệm 70 3.1.1 Lựa chọn phương pháp thiết kế thí nghiệm 70 3.1.2 Lựa chọn thông số đầu vào 71 3.1.3 Xây dựng quy hoạch thực nghiệm 73 iv 3.2 Điều kiện thí nghiệm 80 3.3 Kết thảo luận 80 3.3.1 Kết thí nghiệm 80 3.3.2 Kiểm tra độ tin cậy liệu 82 3.3.3 Phân tích kết 82 3.3.3.1 Năng suất bóc tách vật liệu (MRR) 82 3.3.3.2 Lượng mòn điện cực (TWR) 90 3.3.3.3 Độ nhám bề mặt gia công (Ra) 98 3.3.3.4 Độ cứng tế vi lớp bề mặt (HV) 105 3.3.3.5 Chất lượng lớp bề mặt gia công 114 3.4 Tối ưu hóa đa mục tiêu 119 3.4.1 Các bước tiến hành 119 3.4.2 Kết thảo luận 121 3.4.2.1 Kết hợp Taguchi GRA 121 3.4.2.2 Kết tối ưu 127 3.4.2.3 Thực nghiệm kiểm chứng 128 Kết luận chương 130 Chƣơng ỨNG DỤNG KẾT QUẢ NGHIÊN CỨU VÀO THỰC TIỄN SẢN XUẤT CHẾ TẠO KHUÔN DẬP NÓNG PHÔI BÁT PHỐT XE 132 MÁY 4.1 Mục đích 132 4.2 Sản phẩm ứng dụng 132 4.3 Các tiêu đánh giá 132 4.4 Một số thông tin khuôn 53211 132 4.4.1 Điều kiện làm việc 132 4.4.2 Vật liệu chế tạo khuôn 133 4.4.3 Dạng hỏng khuôn 133 4.5 Chế tạo bề mặt khuôn dập 53211 134 4.5.1 Chế tạo đối chứng phương pháp EDM Công ty 134 4.5.2 Chế tạo khuôn thử nghiệm PMEDM theo thông số lấy từ kết nghiên cứu 135 v 4.6 Kết thử nghiệm thảo luận 136 4.6.1 Tuổi bền khuôn 136 4.6.2 Một số tiêu kinh tế - kỹ thuật 138 Kết luận chương 138 KẾT LUẬN CHUNG VÀ HƢỚNG NGHIÊN CỨU TIẾP THEO 139 DANH MỤC CÁC CÔNG TRÌNH ĐÃ CÔNG BỐ LIÊN QUAN ĐẾN ĐỀ TÀI 142 DANH MỤC TÀI LIỆU THAM KHẢO 145 PHỤ LỤC 156 vi DANH MỤC CÁC CỤM TỪ VIẾT TẮT EDM – Electrical dischagre machining Gia công tia lửa điện PMEDM – Powder mixed electrical Gia công tia lửa điện có trộn bột vào dischagre machining dung dịch điện môi MRR – Material removal rate Năng suất bóc tách vật liệu TWR – Tool wear rate Lượng mòn điện cực RSM - Response Surface Methodology Phương pháp mặt đáp ứng ANN - Artificial Neural Network Mạng nhân tạo GA- Genetic Algorithm Giải thuật di truyền GRA - Grey relational analysis Phân tích quan hệ xám PSO - Particle swarm optimization Tối ưu hóa bầy đàn SA - Simulated annealing Mô ủ PCA - Principal component analysis Phân tích thành phần dof - degree of freedom Bậc tự S/N - Signal to Noise ratio Tỷ số tín hiệu/nhiễu XRD – (X-Ray diffraction) Nhiễu xạ nhờ X - Ray EDX – (Energy-dispersive X-ray) Phổ tán xạ lượng tia X SEM - Scanning electron microscopy Kính hiển vi điện tử ANOVA - Analysis of variance Phân tích phương sai PVD - Physical Vapor Deposition Phủ bay vật lý CVD - Chemical Vapor Deposition Phủ bay hóa học CNC - Computer Numerical Control Điều khiển máy tính vii DANH MỤC CÁC KÍ HIỆU ton Thời gian phát xung tof Thời gian ngừng phát xung Wi Khối lượng phôi ban đầu Wf Khối lượng phôi sau gia công Ra Nhấp nhô bề mặt gia công t Thời gian thực thí nghiệm  Khối lượng riêng phôi Ti Khối lượng điện cực ban đầu Tf Khối lượng điện cực sau gia công D Đường kính lỗ d Đường kính điện cực d Lượng cắt ip Mật độ dòng điện Np Nồng độ bột ep Điện tích hạt bột dp Đường kính hạt bột Ebr Điện trường đánh thủng cách điện dung dịch điện môi có bột Ei Điện trường đánh thủng cách điện dung dịch điện môi bột r Bán kính hạt bột  Độ nhớt dung dịch điện môi p Hằng số điện môi bột i Hằng số điện môi dung dịch điện môi 0 Hằng số điện môi chân không dp Đường kính hạt bột Nf Nồng độ bột sau gia công Ni Nồng độ bột ban đầu  Kích thước khe hở phóng điện 1 Kích thước khe hở phóng điện bột viii 2 Kích thước khe hở phóng điện có bột gp Khoảng cách điện cực hạt bột hp Chiều cao nhấp nhô S Diện tích bề mặt điện cực Wc Năng lượng điện dung g/cm3 Thứ nguyên khối lượng riêng V/m Thứ nguyên cường độ điện trường %/Cm2 Thứ nguyên mật độ dòng điện tạo hạt bột g/l Thứ nguyên nồng độ hạt bột V Thứ nguyên điện áp A Thứ nguyên cường độ dòng điện s Thứ nguyên thời gian HRC Thang đo độ cứng HRC HV Thang đo độ cứng HV ix DANH MỤC BẢNG BIỂU Bảng 2.1 Các điều kiện gia công bề mặt khuôn 37 Bảng 2.2 Chiều dày lớp bề mặt khuôn dập 39 Bảng 2.3 Độ cứng lớp bề mặt khuôn dập theo chiều sâu 40 Bảng 2.4 Thành phần nguyên tố bề mặt khuôn dập 41 Bảng 2.5 Chỉ tiêu ảnh hưởng nồng độ bột 48 Bảng 2.6 Kết thực nghiệm MRR, TWR, Ra độ cứng tế vi lớp bề mặt 49 Bảng 2.7 Kết thực nghiệm %C, Ti Cu lớp trắng 50 Bảng 2.8 Kết sai lệch y1,y2,y3 với giá trị thực nghiệm Cu+ 62 Bảng 2.9 Kết sai lệch y1,y2,y3 với giá trị thực nghiệm Cu- 65 Bảng 2.10 Kết sai lệch y1,y2,y3 với giá trị thực nghiệm Gr+ 67 Bảng 3.1 Mức thông số vào 74 Bảng 3.2 Bậc tự ma trận thí nghiệm 75 Bảng 3.3 Thiết kế thí nghiệm L27 76 Bảng 3.4 Ma trận thí nghiệm 77 Bảng 3.5 Tỷ số S/N đặc trưng 78 Bảng 3.6 Giá trị trung bình tỷ số S/N chi tiêu 81 Bảng 3.7 ANOVA trị số MRR 83 Bảng 3.8 Mức độ ảnh hưởng thông số vào đến MRR 83 Bảng 3.9 ANOVA trị số tỷ số S/N MRR 87 Bảng 3.10 Mức độ ảnh hưởng thông số vào đến tỷ số S/N MRR 87 Bảng 3.11 ANOVA trị số TWR 91 Bảng 3.12 Mức độ ảnh hưởng thông số vào đến TWR 91 Bảng 3.13 ANOVA trị số tỷ số S/N TWR 95 Bảng 3.14 Mức độ ảnh hưởng thông số vào đến tỷ số S/N TWR 95 Bảng 3.15 ANOVA trị số R a 99 160 Bảng 16 Lượng mòn điện cực (TWR) I TN0 II Điện cực Điện cực TWR (g) Sau 122,681 122,365 122,463 Điện cực TWR (g) (mm3/phút) Trước III (mm3/phút) TWR (g) (mm3/phút) Trước Sau 1,762 123,391 122,976 2,321 123,524 2,714 122,611 121,92 2,576 127,098 126,866 1,298 125,817 125,5 1,773 4,295 120,516 119,723 4,435 121,573 120,76 4,547 121,508 4,128 123,524 122,702 4,597 122,312 121,531 4,368 126,957 126,934 0,086 126,866 126,858 0,028 124,836 124,823 0,048 27,021 26,57 11,897 25,595 25,082 11,502 27,118 26,623 11,099 26,881 26,256 9,342 26,688 26,002 10,254 25,539 24,856 10,209 26,093 25,657 19,552 26,267 25,832 19,507 24,746 24,304 19,821 10 122,027 121,618 1,525 124,418 123,806 2,282 127,352 126,756 2,222 11 123,455 123,104 1,309 126,734 126,405 1,227 124,575 124,306 1,003 12 113,952 113,278 3,427 123,363 122,71 3,652 114,475 113,831 3,602 13 121,618 121,346 1,521 123,806 123,405 2,243 123,034 122,5 2,987 14 123,104 123,09 0,078 126,405 126,362 0,12 125,714 125,643 0,199 15 122,702 122,531 0,956 123,09 122,816 1,532 125,301 124,944 1,997 16 26,315 26,181 5,007 26,799 26,442 8,004 25,974 25,559 9,305 17 26,092 25,433 14,776 25,793 25,471 14,439 25,923 25,633 13,004 18 26,422 26,017 6,054 27,557 27,197 5,381 26,792 26,455 5,037 19 126,09 125,947 0,533 124,987 124,871 0,433 124,01 123,797 0,794 20 122,117 121,197 5,145 126,169 125,272 5,017 125,153 124,246 5,073 21 123,596 122,915 2,539 126,67 125,795 3,262 124,435 123,656 2,905 22 123,288 123,268 0,112 124,406 124,318 0,328 125,071 124,966 0,391 23 125,947 125,187 4,251 125,153 124,29 4,827 124,935 124,029 5,067 24 122,915 122,209 3,949 125,795 124,93 4,838 123,047 122,251 4,452 25 25,421 25,219 4,529 26,309 26,109 4,484 25,763 25,558 4,596 26 26,549 25,819 10,56 26,361 25,854 7,578 25,618 25,017 8,984 27 27,238 26,443 11,883 26,098 25,395 15,762 26,607 25,889 16,099 Trước Sau 1,767 125,38 125,065 122,264 0,742 124,252 127,21 126,957 1,415 123,476 122,708 122,246 * Thời gian gia công: 20 phút/thí nghiệm 161 Bảng 17 Độ nhám bề mặt gia công (Ra) Nồng TT Phôi Điện Phân ton I tof độ cực cực (µs) (A) (µs) bột Ra(m) Ra-I Ra-II Ra-III (g/l) SKD61 Cu - 38 3,56 3,12 3,36 SKD61 Cu + 10 57 10 2,96 3,30 3,38 SKD61 Cu -* 20 85 20 2,46 2,61 2,60 SKD61 Cu* + 10 85 3,72 3,55 3,37 SKD61 Cu* -* 20 38 10 3,55 3,64 3,63 SKD61 Cu* - 57 20 1,43 1,33 1,60 SKD61 Gr -* 20 57 4,60 4,86 4,89 SKD61 Gr - 85 10 3,24 3,29 3,18 SKD61 Gr + 10 38 20 4,29 4,42 4,35 10 SKD11 Cu + 20 85 4,27 4,08 4,12 11 SKD11 Cu -* 38 10 2,11 2,17 1,86 12 SKD11 Cu - 10 57 20 3,03 3,26 3,30 13 SKD11 Cu* -* 57 3,33 3,36 3,37 14 SKD11 Cu* - 10 85 10 1,92 1,96 2,24 15 SKD11 Cu* + 20 38 20 4,37 4,69 4,65 16 SKD11 Gr - 10 38 4,65 4,69 4,37 17 SKD11 Gr + 20 57 10 4,36 4,45 4,54 18 SKD11 Gr -* 85 20 2,70 2,81 2,72 19 SKT4 Cu -* 10 57 2,45 2,58 2,61 20 SKT4 Cu - 20 85 10 4,33 4,53 4,08 21 SKT4 Cu + 38 20 2,36 2,75 2,28 22 SKT4 Cu* - 20 38 2,09 2,44 2,24 23 SKT4 Cu* + 57 10 2,72 2,88 3,07 24 SKT4 Cu* -* 10 85 20 3,65 3,32 3,53 25 SKT4 Gr + 85 3,25 3,15 3,30 26 SKT4 Gr -* 10 38 10 3,30 3,23 3,18 27 SKT4 Gr - 20 57 20 5,55 5,96 5,45 162 Bảng 18 Độ cứng lớp trắng bề mặt gia công (HV) TT HV-I HV-II HV-III HV-IV HV-V 523,8 452,7 541,9 532,7 482,4 680,9 660,2 670,8 680,9 602 580,9 541,9 613 580,9 591,3 541,7 500,3 432,1 502,3 507,0 846,6 741,7 932,7 813,3 810,3 641,7 673 626,8 641,7 566 551,2 532,7 541,9 572,8 524,3 756,8 756,8 713 788,4 727,1 612,5 634,2 598,7 612,5 673,0 10 485,7 524,3 541,7 506,6 490,3 11 602 532,7 804,9 685,8 772,3 12 647,9 660,2 665,8 647,9 699,2 13 560,9 513 515,1 541,9 599,2 14 685,8 741,8 602,3 741,8 624,3 15 660,7 602 664,9 706,6 641,7 16 438,9 467,2 491,3 480,9 470,8 17 905,8 977,7 870 938,1 846,6 18 685,8 713 672,8 660,2 685,8 19 547,9 515,1 547,9 544,3 498,4 20 560,9 570,8 727,1 591,3 672,8 21 660,2 591,3 660,2 685,8 560,9 22 460,9 523,8 438,9 474,7 441,9 23 532,7 523,8 523,6 580,9 560,9 24 570,8 610 624,3 591,3 672,8 25 404,5 453,7 497,7 418,3 453,0 26 727,1 699,2 685,8 613,2 680,8 27 891,1 803,2 724,4 953 791,6 * Đo thang đo HV với vị trí hình Phần phụ lục 163 164 165 166 167 Hình Máy xung CNC- AG40L a) Cánh khuấy b) Động khuấy c) Bơm dung môi d) Nam châm vĩnh cửu Hình Thiết bị bình khuấy 168 Hình Cân xác Hình Máy đo độ nhám bề mặt SJ301 169 Hình Máy kiểm tra độ cứng lớp phủ Hình Thực nghiệm 170 Hình Máy dập thử nghiệm Hình Vị trí đo độ cứng lớp bề mặt 171 Versus Fits Normal Probability Plot (response is Means) (response is Means) 99 95 Standardized Residual 90 Percent 80 70 60 50 40 30 20 10 -1 -2 -2 -1 Standardized Residual 10 20 40 50 60 b) Sự phân bố số dư a) So sánh với phân bố chuẩn Versus Order Histogram (response is Means) (response is Means) Standardized Residual Frequency 30 Fitted Value 1 -1 -2 -2 -1 Standardized Residual 2 10 12 14 16 18 Observation Order 20 22 24 26 d) Số dư thí nghiệm c) Tần suất xuất Hình Đồ thị số dư cho MRR Normal Probability Plot Versus Fits (response is SN ratios) (response is SN ratios) 99 95 Standardized Residual 90 Percent 80 70 60 50 40 30 20 10 -1 -2 -1 Standardized Residual -2 -20 -10 20 30 40 b) Sự phân bố số dư a) So sánh với phân bố chuẩn Versus Order Histogram (response is SN ratios) (response is SN ratios) Standardized Residual Frequency 10 Fitted Value -1 -2 -1.5 -1.0 -0.5 0.0 0.5 1.0 Standardized Residual 1.5 2.0 10 12 14 16 18 Observation Order 20 22 24 d) Số dư thí nghiệm c) Tần suất xuất Hình 10 Đồ thị số dư cho tỷ số S/N MRR 26 172 Kiểm tra độ tin cậy liệu khảo sát Normal Probability Plot Versus Fits (response is Means) (response is Means) 99 95 Standardized Residual 90 Percent 80 70 60 50 40 30 20 10 -1 -2 -3 -2 -1 Standardized Residual 10 Fitted Value 15 20 b) Sự phân bố số dư a) So sánh với phân bố chuẩn Versus Order Histogram (response is Means) (response is Means) Standardized Residual 1 -1 -2 -2 -1 Standardized Residual 2 10 12 14 16 18 Observation Order 20 22 24 26 d) Số dư thí nghiệm c) Tần suất xuất Hình 11 Đồ thị số dư cho TWR Normal Probability Plot Versus Fits (response is SN ratios) (response is SN ratios) 99 95 Standardized Residual 90 Percent 80 70 60 50 40 30 20 10 -1 -2 -2 -1 Standardized Residual -30 -20 -10 Fitted Value 10 20 a) Sự phân bố số dư a) So sánh với phân bố chuẩn Versus Order Histogram (response is SN ratios) (response is SN ratios) Standardized Residual Frequency Frequency 5 -1 -2 -1.5 -1.0 -0.5 0.0 0.5 1.0 Standardized Residual 1.5 c) Tần suất xuất 2.0 10 12 14 16 18 Observation Order 20 22 24 d) Số dư thí nghiệm Hình 12 Đồ thị số dư cho tỷ số S/N TWR 26 173 Normal Probability Plot Versus Fits (response is Means) (response is Means) 99 95 Standardized Residual 90 Percent 80 70 60 50 40 30 20 10 -1 -2 -3 -2 -1 Standardized Residual 3 Fitted Value b) Sự phân bố số dư a) So sánh với phân bố chuẩn Histogram Versus Order (response is Means) (response is Means) Standardized Residual Frequency 4 -1 -2 -1 Standardized Residual -2 2 10 12 14 16 18 Observation Order 20 22 24 26 d) Số dư thí nghiệm c) Tần suất xuất Hình 13 Đồ thị số dư cho R a Normal Probability Plot Versus Fits (response is SN ratios) (response is SN ratios) 99 95 Standardized Residual 90 Percent 80 70 60 50 40 30 20 10 -1 -2 -3 -2 -1 Standardized Residual -15.0 -12.5 -10.0 Fitted Value -5.0 b) Sự phân bố số dư a) So sánh với phân bố chuẩn Histogram Versus Order (response is SN ratios) (response is SN ratios) Standardized Residual Frequency -7.5 -1 -2 -2.0 -1.5 -1.0 -0.5 0.0 0.5 Standardized Residual 1.0 1.5 10 12 14 16 18 Observation Order 20 22 24 c) Tần suất xuất d) Số dư thí nghiệm Hình 14 Đồ thị số dư tỷ số S/N Ra 26 174 Normal Probability Plot Versus Fits (response is Means) (response is Means) 99 100 95 90 50 70 Residual Percent 80 60 50 40 30 20 10 -50 -100 -50 Residual 50 100 -100 500 a) So sánh với phân bố chuẩn 600 700 Fitted Value 800 900 b) Sự phân bố số dư Histogram Versus Order (response is Means) (response is Means) 12 100 10 50 Residual Frequency -50 -80 -40 Residual 40 -100 80 10 12 14 16 18 Observation Order 20 22 24 26 d) Số dư thí nghiệm Hình 15 Sơ đồ số dư cho giá trị HV c) Tần suất xuất Normal Probability Plot Versus Fits (response is SN ratios) (response is SN ratios) 1.5 99 95 1.0 90 0.5 70 Residual Percent 80 60 50 40 30 20 0.0 -0.5 10 -1.0 -1.5 -1.0 -0.5 0.0 Residual 0.5 1.0 53 54 55 58 59 Versus Order Histogram (response is SN ratios) (response is SN ratios) 14 1.5 12 1.0 10 0.5 Residual Frequency 57 b) Sự phân bố số dư a) So sánh với phân bố chuẩn 0.0 -0.5 -1.0 56 Fitted Value -1.2 -0.6 0.0 Residual 0.6 1.2 10 12 14 16 18 Observation Order 20 22 24 d) Số dư thí nghiệm c) Tần suất xuất Hình 16 Sơ đồ số dư cho tỷ số S/N HV 26

Ngày đăng: 17/08/2016, 14:42

Từ khóa liên quan

Tài liệu cùng người dùng

Tài liệu liên quan