Nghiên cứu thiết kế và quy trình chế tạo chip chia công suất quang trên cơ sở vật liệu lai NaNô ASZ

63 604 1
Nghiên cứu thiết kế và quy trình chế tạo chip chia công suất quang trên cơ sở vật liệu lai NaNô ASZ

Đang tải... (xem toàn văn)

Tài liệu hạn chế xem trước, để xem đầy đủ mời bạn chọn Tải xuống

Thông tin tài liệu

. lai nanô ASZ. Mục tiêu nghiên cứu được đặt ra là thiết kế chip chia công suất quang 1xN (N = 2, 4, 8), nhằm tối ưu cấu trúc của chip theo hệ vật liệu lai nanô ASZ và chế tạo chip chia công suất. HÀ NỘI TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ Nguyễn Tất Thành NGHIÊN CỨU THIẾT KẾ VÀ QUY TRÌNH CHẾ TẠO CHIP CHIA CÔNG SUẤT QUANG TRÊN CƠ SỞ VẬT LIỆU LAI NANÔ ASZ LUẬN. vào hướng nghiên cứu nhiều triển vọng này. Chính vì vậy đề tài nghiên cứu được lựa chọn cho luận văn là: Nghiên cứu thiết kế và quy trình chế tạo chip chia công suất quang 1x2 từ vật liệu lai

Ngày đăng: 25/03/2015, 11:56

Từ khóa liên quan

Mục lục

  • MỤC LỤC

  • Danh mục các ký hiệu, các chữ viết tắt

  • Danh mục các bảng

  • Danh mục các hình vẽ, đồ thị

  • MỞ ĐẦU

  • 1.1. Dẫn sóng quang tầng

  • 1.1.1. Điều kiện giam giữ ánh sáng

  • 1.1.2. Điều kiện hình thành mode dẫn

  • 1.2. Phương pháp lan truyền chùm tia BPM

  • 1.3. Vật liệu dẫn sóng quang

  • 1.3.1. Vật liệu sợi Silica (SiO2)

  • 1.3.2. Vật liệu silica on silicon (SOS)

  • 1.3.3. Vật liệu silicon on insulator (SOI)

  • 1.3.4. Vật liệu silicon oxynitride (SiON)

  • 1.3.5. Vật liệu Indium phosphide (InP)

  • 1.3.6. Vật liệu Gallium Arsenide (GaAs)

  • 1.3.7. Vật liệu Lithium Niobate (LiNbO3)

  • 1.3.8. Vật liệu polyme

  • 1.3.9. Vật liệu lai hữu cơ –vô cơ

  • 1.4. Quy trình chế tạo vi cấu trúc dẫn sóng kiểu kênh

Tài liệu cùng người dùng

Tài liệu liên quan